第197章 涌向CK的暗流（1 / 4）

第197章 涌向ck的暗流

荷蓝，埃因霍温，阿斯唛（as）研发实验室。

空气中弥漫着一种近乎凝固的兴奋，混合着精密仪器的特殊冷却液气味和咖啡的浓郁香气。

巨大的洁净室内，一台庞大而复杂的机器，人类历史上第一台极紫外（euv）光刻机原型机，正静静地矗立在中央，仿佛一头蛰伏的金属巨兽。

虽然它此刻的晶圆良品率低得可怜，仅有30%，光源输出功率也忽高忽低，稳定性堪忧，远未达到商用标准，但这并不妨碍围绕它的研发人员们脸上洋溢着巨大的成就感和狂喜。

突破了！

他们真的突破了物理的极限，为摩尔定律的延续凿开了一道新的曙光！

与已经十分成熟、但已逼近物理极限的深紫外（duv）光刻机相比，这台euv是通向7n乃至更先进制程的全新道路。

实验室的门滑开，阿斯唛总裁皮特温尼克面带笑容地走了进来，立刻被热烈的掌声和欢呼包围。

他热情地与每一位核心工程师握手，声音洪亮而充满感染力。

“女士们，先生们！

今天，你们创造了历史！

这台机器，不仅仅是一台光刻机，它是人类智慧对抗物理法则的又一次伟大胜利！

它证明了我们阿斯唛走在正确的道路上，证明了全球协作的力量！

euv的时代，将由我们一同开启！”

狂欢的气氛被推向了高潮。

香槟酒塞“嘭”地打开，泡沫四溅。

在一片欢腾中，温尼克将euv项目负责人，来自台机电的技术大拿闫涛南叫到了一旁相对安静的角落。

温尼克脸上的笑容稍稍收敛，他需要了解更现实的情况。

“闫，干得漂亮！

但现在，我需要知道最真实的数据。

如果我是说如果，我们的关键子系统被迫启用备用供应商，对良率的影响具体有多大”

闫涛南推了推眼镜，技术人的严谨让他迅速进入状态，语气清晰而准确。

“温尼克先生，情况如下：

光源系统：

目前我们使用北美cyr的lpp（激光等离子体）光源，能量转换效率达到5.5%。

如果换用备用供应商得国trupf的30kw二氧化碳激光器，其转换效率为3.42%，且稳定性稍逊。

模拟结果显示，这会导致整体良品率下降约5%。

光学系统：

核心是得国蔡斯（zeiss）的euv反射镜，其表面粗糙度控制在惊人的0.1n以内。

如果启用备用方案，即霓虹尼糠（nikan）和佳（non）的组合，他们的镀膜工艺目前难以达到同等水平，可能会引入更高的缺陷密度。

估算下来，反射镜缺陷率若从蔡斯的0.001个/平方厘米上升到0.03个/平方厘米，良品率将下降10%。

对准系统：目前我们采用的是来自种的橙科（ck）的对准子系统。

它的静态精度达到了0.000018°/h，动态群体校正算法能有效补偿振动，定位误差控制在亚纳米级。

如果换回我们之前使用的得国蔡斯方案，其动态误差控制略逊，可能导致套刻误差增加，良品率预计下降5%。”

提到“种的ck”时，闫涛南的语气微微一顿，一丝极其复杂的情绪在他眼中一闪而过。

那是一种夹杂着对同胞技术崛起的微妙自豪感，与对两岸未知竞争格局潜藏的不安。

温尼